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在對回轉(zhuǎn)窯所進行的模擬控制操作中，要想對其內(nèi)部的液霧顆粒相進行操控，我們就必須確定液滴的蒸發(fā)速度。
在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)，液霧一般是身處于流動的狀態(tài)中的，并且液滴的四周還屬于強迫對流環(huán)境,在此種環(huán)境中，液滴周圍的球?qū)ΨQ流將不再存在。為了對回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的液霧流動進行更加詳細的分析，并清除窯內(nèi)不同因素內(nèi)其蒸發(fā)率產(chǎn)生的影響，我們在實際的操作中會采用“折算薄膜”的方法來進行分析。在不考慮回轉(zhuǎn)窯煅燒過程中的蒸發(fā)以及煅燒情況下，假設(shè)液滴的四周有一恰當厚度的球形氣層，通常被我們稱作駐膜，其內(nèi)部的球?qū)ΨQ所產(chǎn)生的導(dǎo)熱與物料煅燒時其對流換熱是相等的。然后我們在研究在此駐膜內(nèi)的球?qū)ΨQ蒸發(fā)以及燃燒。采取以上的方法所進行的回轉(zhuǎn)窯單個液滴的蒸發(fā)速率的計算，可以被我們用來計量在此過程中能力以及組分的擴散，從而獲得液滴的蒸發(fā)速率的熱工。
在計量了回轉(zhuǎn)窯內(nèi)液滴的蒸發(fā)速率后，我們就可以注于窯內(nèi)物料及其他設(shè)備的煅燒，并隨時為煅燒過程中出現(xiàn)的不同問題進行記錄，以后期實驗的進行做充分的準備�；剞D(zhuǎn)窯相關(guān)煅燒操作可以隨時撥打熱線電話咨詢：0371-55018888